第255章 打小报告的黄鹤 (第4/6页)

木村真琴大概就是这样的情况，且不说阿斯麦的事情，如果十台光刻机是真的，那木村真琴无论如何道歉，也要把黄鹤这个客户给笼络到手中的。

    “日本人能够成功，果然不是没有原因的！”黄鹤感叹一声，然后接着说道“既然木村社长的态度如此诚恳，那我也不跟您弯弯绕绕了，我直接说吧，阿斯麦已经得到了跨越50纳米的技术极限的钥匙了，最迟两年的时间，阿斯麦的第1台48纳米级别的光刻机就能够上市。”

    “这不可能！”木村真琴又一次高呼出了不可能三个字，但这一回他脑门上全部都是汗水，身上穿的和服，甚至都在这一瞬间被汗水给浸透了。

    50纳米的技术极限，这是全球捆在所有光刻机企业脖子上的绳索，自从10年前到达这个极限之后，无论是尼康还是佳能，几乎每年都要投入1-2亿美元的巨额资金来研发突破这个极限的途径。

    为了突破这个极限，全球各个光刻机行业的专家们提出了几种途径，其中包括157nmF2激光，电子束投射，离子投射、EUV和X光，并形成了以下几大阵营：

    其中F2激光技术，这是目前在理论和技术上最为成熟的阵营，在浸润式光刻机出现之前，几乎所有的光刻机企业研究的都是这个技术，目前是美国的SVG和日本的尼康，在这两个技术上走的最远，尤其是尼康，他们估计再有个5年左右的时间，就能够拿出最终的产品出来了。

    但是这个技术有一个巨大的缺陷，那就是生产成本巨大，改造成本也更加的巨大，而且这个技术的天花板，也就是从50纳米提高到了40纳米左右，提升的幅度只有