重生2010：我加点做大佬 第535节 (第6/7页)

刻胶在最佳条件下进行曝光，包括过滤器和温度控制器等。

    测量系统，用于检测硅片的位置和旋转，以及曝光后的质量和厚度等参数。通常由传感器和计算机接口组成，以提供实时反馈并调整曝光台的位置和参数……”

    何婷波既是管理人员，又是专业的技术人员出身，谈到烛龙光刻机，自然是高谈阔论，满是自信之色。

    一台光刻机的内部组件除了曝光台外，还有激光器、光束矫正器、能量控制器、掩膜台和物镜等十几种大型零配件，如果让她一一解读，这场发布会估计要开个两天两夜。

    因此，何婷波在介绍完曝光台的结构后，凝思片刻道：

    “烛龙10800 euv光刻机采用13.5纳米波长的euv光源，相比传统的深紫外光刻技术，具备更高的光学分辨率和更低的纹影效应，这也是它能支持7纳米和5纳米芯片生产的基础。

    首先，euv光源的功率达到了55瓦，可提供强大稳定的光源，保证良好的曝光效果和超高的生产能力。

    其次，具备每小时160片晶圆的生产能力，能满足高强度、大规模的芯片生产需求。

    再次，精确的光学成像系统，能够准确地将芯片设计图案投射到硅晶圆上，拥有高分辨率和低畸变的优异特点，极大降低了生产不良率。

    最后，先进的智能控制系统，能够实时监测和调整光刻过程中的关键参数，确保稳定的生产效率，才能获得品质一致的芯片产品。”

    何婷波说到这里时，直接切换投屏画面，放出了烛龙10800 euv光刻机的定价系统。

    国内版2